Hydrogen - 500（S）氣相色譜專用氫氣發(fā)生器是一款專為氣相色譜分析精心打造的設備，具備連續(xù)可靠產(chǎn)生高純度氫氣的能力，氫氣純度可達 99.9999%以上。 

相較于昂貴且存在危險隱患的高壓氫氣鋼瓶，Hydrogen - 500（S）氫氣發(fā)生器優(yōu)勢顯著。它僅需去離子水和供電，就能持續(xù)產(chǎn)生氫氣，一次加水便可維持長達 15 天的穩(wěn)定工作，成本極為低廉。同時，其出色的安全性和簡便操作性，使其成為替代高壓氫氣鋼瓶的理想之選。 

該氫氣發(fā)生器能夠根據(jù)實際需求適時適量地產(chǎn)生氫氣，精準調(diào)節(jié)氫氣產(chǎn)量，有效避免了因過量儲存氫氣而帶來的安全風險，在滿足實驗室對高純度氫氣需求的同時，保障了操作人員的安全。
 

在技術(shù)與結(jié)構(gòu)設計上，Hydrogen - 500（S）氣相色譜專用氫氣發(fā)生器采用 SPE 固態(tài)電解質(zhì)技術(shù)，無需使用堿，直接電解純水，這種創(chuàng)新設計對色譜柱起到了有效的保護作用。設備配備分子篩耐用干燥劑，可產(chǎn)出純度高達 99.9999%的氫氣，有力確保了實驗結(jié)果的重現(xiàn)性。此外，內(nèi)部采用英國 Peculiar 硅橡膠圈（含硫量低），極大地提高了氣體質(zhì)量，保證了 GC 基線的平穩(wěn)，為氣相色譜分析提供了穩(wěn)定可靠的基礎。 

功能方面，該氫氣發(fā)生器集成了一體化微電腦控制的壓力和流量調(diào)節(jié)系統(tǒng)，實現(xiàn)對壓力和流量的精準調(diào)控。它還擁有自動水位控制功能，在缺水狀態(tài)時會自動停機，并且具備自動補水功能。當設備水量低于 15%時，外置水箱會自動補水，無需停機加水，這一貼心設計有效保護了電解池，大大延長了設備的使用壽命。
 

Hydrogen - 500（S）氣相色譜專用氫氣發(fā)生器憑借其高純度產(chǎn)氣、低成本運行、安全簡便以及功能強大等諸多優(yōu)勢，成為氣相色譜分析領域的得力助手，為科研工作提供了可靠的氫氣供應保障。  

金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器技術(shù)參數(shù)：

Hydrogen-500（S）金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器在半導體制造領域扮演著至關(guān)重要的角色，其廣泛應用主要體現(xiàn)在以下幾個方面：

1.清洗與退火：氫氣作為清洗氣體，能夠有效去除半導體材料表面的污染物和氧化物，提供清潔的表面環(huán)境。同時，在退火過程中，氫氣有助于晶體的再結(jié)晶，提升材料的質(zhì)量和性能。

2.賦活處理：通過將水合氧化物轉(zhuǎn)化為電氧化物，提高雜質(zhì)離子濃度，從而改善半導體器件的性能和穩(wěn)定性。

3.硅取向和外延生長調(diào)控：精確控制氫氣的流量和溫度，可以實現(xiàn)硅晶片特定方向的優(yōu)先生長，獲得所需的硅材料取向，這對于半導體器件的制造至關(guān)重要。

4.清除氧污染：在特殊工藝中，利用氫氣清除氧氣污染，避免生成影響器件性能的氧化物，確保半導體產(chǎn)品的高質(zhì)量。

5.CVD和MOCVD工藝：作為CVD（化學氣相沉積）和MOCVD（金屬有機化學氣相沉積）技術(shù)中的專用設備，金剛石

MPCVD氫氣發(fā)生器能夠提供高純度、穩(wěn)定壓力的氫氣，滿足這些先進制造工藝對氣體質(zhì)量的嚴格要求。

6.其他領域應用：除了半導體制造，金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器還廣泛應用于太陽能電池、化學反應、燃料電池等多個領域，為這些領域提供穩(wěn)定可靠的氫氣供應。